Fremstilling af tyndfilm

Titel Fremstilling af tyndfilm

Vejleder J. Bøttiger, J. Chevallier

Fagområde Materialefysik, plasmafysik, anvendt fysik

Abstract Anvendelsen af tyndfilm (1-3 µm) er meget udbredt i mange sammenhænge enten som en dekorativ belægning (f.eks. ure og briller) eller som en mekanisk og/eller kemisk beskyttelse (f.eks. værktøjer og sensorer). De anvendte fremstillingsprocesser i projektet er "Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (PACVD) og "Physical Vapour Deposition" (PVD). I begge processer udnyttes et stort kendskab til, og kontrol over, de atomare processer, der foregår på overfladen. Disse processer bestemmer filmens endelige struktur og egenskaber.